日本JEOL 能量色散型X射線熒光分析儀 JSX-1000S
JSX-1000S型X射線熒光光譜儀采用觸控屏操作、提供更加簡便迅速的元素分析。具備常規定性、定量分析（FP法・檢量線法）、RoHS元素篩選功能等。 利用豐富的硬件/軟件選配件、還能進行更廣泛的分析。
產品規格 。FIB
。檢測元素范圍：Mg～U
。X射線發生裝置：5～50 kV , 1mA
。靶材：Rh
。***次濾波器 *多9種 自動交換：標準：OPEN, ND, Cr, Pb, Cd
選配：Cl, Cu, Mo, Sb
。準直器3種 自動交換：0.9mm, 2mm, 9mm
。檢測器：硅漂移檢測器（SDD）
。樣品室尺寸：300mmφ×80mmH
。樣品室氣氛：大氣 / 真空(選配）
。樣品室觀察機構：彩色攝像機
。操作用電腦：Windows ® 觸控屏 臺式電腦
。分析軟件（標準）：定性分析（自動定性、KLM標記、和峰顯示、譜圖檢索）
定量分析（塊狀FP法、檢量線法）
RoHS分析解決方案（Cd, Pb,Cr, Br, Hg)
簡易分析解決方案
報告制作軟件
。分析軟件（選配）：薄膜FP法分析軟件
關聯濾波器FP法分析軟件
。日常檢查軟件（標準）：管球升壓、能量校正、強度校正
Windows ® 為美***微軟公司在美***或其它******的注冊商標或商標。
- 主要附件
- 樣品室真空排氣單元
- 多樣品自動交換單元
- 濾波器組
- 濾膜FP 法分析軟件
- 薄膜FP 法分析軟件
- 和峰消除軟件
- 鎳鍍層篩選解決方案
- 錫鍍層篩選解決方案
- 氯元素篩選解決方案
產品特點：
· JIB-4000聚焦離子束加工觀察系統配置了高性能的離子鏡筒(單束FIB裝置)。被加速了的鎵離子束經聚焦照射樣品后，就能對樣品表面進行SIM觀察 、研磨，沉積碳和鎢等材料。還可以為TEM成像制備薄膜樣品，為觀察樣品內部制備截面樣品。通過與SEM像比較，SIM像能清楚地顯示出歸因于晶體取向不同的電子通道襯度差異，這些都非常適合于評估多層鍍膜的截面及金屬結構。
· 高性能FIB鏡筒
· JIB-4000采用高性能的FIB鏡筒，離子束流高達 60 nA，能進行快速研磨。大電流下的快速加工尤其適合于大面積的研磨，制備100 μｍ以上用來觀察的截面非常輕松。
· 用戶友好的FIB裝置
· JIB-4000高性能的 FIB鏡筒具有出色的可操作性。用戶友好的外觀和GUI設計，建立了使用方便的FIB系統。即使不是FIB專***也能夠輕松操作，此外，該裝置小巧緊湊為業界*小體積，安裝地點的選擇范圍很大。
· 雙樣品臺
· JIB-4000標配的塊狀樣品馬達驅動樣品臺可供塊狀樣品使用，此外還可以增配側插式測角臺（TEM用Tip-on 樣品架可以直接插入）。塊狀樣品馬達驅動樣品臺能觀察整個表面為20 mm x 20 mm的塊狀樣品，樣品交換可以通過氣鎖式系統快速進行。側插式測角臺與JEOL的TEM系統使用的相同，因此Tip-on （尖端上可以安裝附件的）樣品架與JEOL的TEM系統可以通用，這樣，FIB加工和TEM觀察的反復交替就能很容易地進行。
· 豐富的附件
· 有各種附件可用來支持JIB-4000的操作。包括對電路修改應用特別有效的CAD導航系統，對特殊形狀加工有效的矢量掃描系統等。通過給JIB-4000安裝適當的附件，該系統可以支持樣品制備以外的應用。
滬公網安備31011502016460號
