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ONH氧氮?dú)浞治鰞x分析精度

氧：0.1ppm或RSD≤1.0%
氮：0.1ppm或RSD≤1.0%
氫：0.1ppm或RSD≤1.0%

注：以不大于試樣標(biāo)準(zhǔn)偏差或不確定度為準(zhǔn)。

4.   靈敏度： 0.01ppm

5.   分析時(shí)間：***般為4分鐘左右

6.   樣品稱重：***般為1g，可根據(jù)樣品含量改變稱樣量。

7.   脈沖爐：電流0～1500A，功率：7.5KVA,***高溫度高于3000℃。多種程序升溫方式：恒功率升溫，斜率升溫。多種選擇的坩堝設(shè)計(jì)：對(duì)不同樣品釋放情況，除標(biāo)準(zhǔn)坩堝外

8.   載氣：氧氮?dú)浞治觯焊呒兒猓呒儦鍤猓ǜ哐鯓悠房筛鼡Q為高純氬氣）

9.   電源： 220VAC±10%，50/60Hz，***大電流50A。

ONH氧氮?dú)浞治鰞x分析范圍

氧：低氧：0.0001%～0.5％；高氧：0.5％ ～20%

氮：低氮：0.0001% ～0.5％；高氮：0.5%～50%

氫： 低氫：0 - 0.005% ；高氫：0 – 0.1％

注：改變稱樣量可改變測(cè)量范圍

ONH氧氮?dú)浞治鰞x適用范圍：

1.   可以快速準(zhǔn)確測(cè)量鋼鐵、稀土材料、合金、銅、鋯、鈦、陶瓷、粉末材料及其他無(wú)機(jī)材料中的氧氮?dú)浜俊Ｔ搩x器具有靈敏度高、性能好、測(cè)量范圍寬和分析結(jié)果準(zhǔn)確可靠等優(yōu)點(diǎn)。用同***臺(tái)儀器分析固體無(wú)機(jī)物中的氧、氮。