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高級原子沉積機

價  格:詢價

產  地:更新時間:2021-01-19 15:36

品  牌:型  號:P-300B Advanced ALD

狀  態:正常點擊量:2866

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 PICOSUN P-300B Advanced ALD 高***原子沉積機

技術參數
  。基片尺寸和類型 300mm晶圓10片/批次(標準間距)
  。200mm晶圓25+2片/批次(標準間距)

工藝溫度
 :50 - 500 °C

基片傳送選件:。
 氣動升降(手動加載)
         。半自動裝載,用線性裝載器實現
         。52片晶圓盒式全自動裝載,用真空批量Load lock實現

前驅體:
  。液態,固態,氣態,臭氧源
       。前驅源余量傳感器,并提供清洗和裝源服務
       。4根獨立源管線,*多加載6個前驅體源

重量 :
400 + 300 kg

尺寸:
 (W x H x D) 149 cm x 191 cm x 111 cm

選件 :
PICOFLOW™ 擴散增強,N2發生器,尾氣處理器,定制設計,與工廠軟件連接服務。

驗收標準 :
標準設備驗收標準為 Al2O3 工藝



PICOSUN高產量的批量型工業用ALD系統 

各種的批量產品裝載及自動化選項ALD技術可以覆蓋各種形狀、各種表面的樣品,可以覆蓋*細小的地方,*難到達的地方。具有高度的保形性、均***性***無針孔。這使得ALD可以應用于各種行業里,實現各種表面的保護。ALD薄膜可以附著在各種表面上,例如金屬,玻璃,塑料,乃至纖維及粉末。作為氣相、低溫的沉積技術,ALD薄膜可以生長在非常敏感的表面上,例如聚合物薄膜。

***,
PicosunALD技術應用在鐘表部件、珠寶、硬幣上進行防著色,防腐蝕的裝飾涂層。在生物植入醫療部件上的生物兼容、生物活性涂層。致密、惰性、密封、彈性、透明的ALD薄膜技術挑戰傳統的膜生長方式。在PCB防腐蝕保護、防摩損等領域,ALD層大大提升了部件的質量、可靠性及壽命。

應用
ALD U
 產品
     
應用
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產品參數


產品介紹



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