英國 DENTON 磁控濺射及電子束蒸發(fā)薄膜沉積平臺(tái)
價(jià) 格：詢價(jià)
產(chǎn) 地：更新時(shí)間：2021-01-19 15:36
品 牌：型 號(hào)：DENTON磁控濺射及電子束蒸發(fā)薄膜沉積平臺(tái)
狀 態(tài)：正常點(diǎn)擊量：2943
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DENTON 磁控濺射及電子束蒸發(fā)薄膜沉積平臺(tái)：
DENTON 真空使創(chuàng)新成為可能，并已超過50年。
全球成千上萬的薄膜沉積工具安裝,包括***個(gè)大型的、在全球范圍內(nèi)安裝的精密光學(xué)沉積系統(tǒng)——工程師和研究人員依靠DENTON 的薄膜創(chuàng)新驅(qū)動(dòng)更高的吞吐量,更好的收益和低擁有成本(***席運(yùn)營官),受益于綜合服務(wù)和支持,和***個(gè)專門的研發(fā)項(xiàng)目,提供可行的技術(shù)。 探索者提供了薄膜工業(yè)中*廣泛的配置和沉積模式:電子束蒸發(fā)、電阻蒸發(fā)、濺射、離子鍍和離子輔助沉積。
DENTON 薄膜沉積平臺(tái) •R & D •批量生產(chǎn) •在線生產(chǎn) •蒸發(fā) •濺射 •PE-CVD
DENTON 的區(qū)別 你們的過程就是我們的過程。 我們與您合作設(shè)計(jì)***個(gè)系統(tǒng)，以解決您的確切薄膜涂裝工藝的需要。當(dāng)我們給你運(yùn)送工具時(shí)，它已經(jīng)準(zhǔn)備好生產(chǎn)了。 •我們的系統(tǒng)規(guī)模可以滿足您的生產(chǎn)需求 •我們永遠(yuǎn)相信客戶 •全球支持網(wǎng)絡(luò) 在DENTON，我們關(guān)心你的成功 •工廠驗(yàn)收測(cè)試 •個(gè)性化培訓(xùn) •遠(yuǎn)程、實(shí)時(shí)支持 •CE / UL / CSA兼容系統(tǒng)
能濺射 電、磁、復(fù)合材料。柔性陰極，調(diào)整到?jīng)_擊角也可用。
強(qiáng)大的控制系統(tǒng) 可在半手動(dòng)模式或全自動(dòng)模式與***個(gè)推動(dòng)自動(dòng)化，以減少系統(tǒng)停機(jī)時(shí)間。
Processpro升***提供: 1.所有登頓真空產(chǎn)品的***致性控制。 2.標(biāo)準(zhǔn)軟件使其易于支持和避免昂貴的定制費(fèi)用。 3.源代碼為您的程序，以便您可以自定義您的程序。 4.網(wǎng)絡(luò)功能使資源管理器 網(wǎng)絡(luò)上支持實(shí)時(shí)、遠(yuǎn)程支持和升***的節(jié)點(diǎn)。 
靈活的室大小 可容納多達(dá)10英寸的襯底。
多個(gè)泵配置 多種擴(kuò)散、低溫和渦輪泵配置可用于滿足您的預(yù)算和工藝。后方或底部安裝的泵提供方便的訪問服務(wù)，根據(jù)您的工作場(chǎng)所的需要。
典型的應(yīng)用
PE-CVD •材料研究 •小批處理系統(tǒng) •3 d對(duì)象 •覆蓋各種材料 濺射 •材料研究 •產(chǎn)品質(zhì)量控制和質(zhì)量保證 •半導(dǎo)體失效分析 •CD掌握 •納米技術(shù) •化合物半導(dǎo)體 •oled 蒸發(fā) •材料研究 •離子輔助沉積(IAD) •醫(yī)療設(shè)備 •電信 •CD掌握 •發(fā)射 •保護(hù)涂層 
選項(xiàng)：
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滬公網(wǎng)安備31011502016460號(hào)
