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X熒光能譜儀Rohs檢測儀 鍍層測厚儀膜測厚儀

價  格:詢價

產  地:美國更新時間:2020-11-04 12:11

品  牌:賽默飛型  號:X熒光能譜儀

狀  態:正常點擊量:1058

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美***賽黙飛世爾ThermoFisher(美***熱電)能量色散X-射線熒光光譜儀(ED-XRF)
技術參數
樣品室 

樣品類型 固體、粉末、液體、濾渣、鍍層和其它 

尺寸 30.5cm(w)x38.9cm(D)x6.6cm(H)
增高室(選購件): 21.5cm或37.1cm
單位盤 樣品可大至樣品室大小
10位盤(選購件) 帶自轉機構,樣品可大至47mm
20位盤(選購件) 樣品可大至31mm
自動和手動盤 為特種樣品專用的樣品盤,選購件
環境 空氣、真空(選購件)和充氦(選購件)

激發
X-光管 超高通量,端窗,RH靶,76um鈹窗,空氣冷卻,其它靶可選
X-光發生器 4-50KV,1KV間隔。O.02-2.OmA,0.02mA 間隔
濾光片 7種濾光片加1空位,自動選擇
準直器(選購件) 1.0、2.0、3.5、6.8和8.8 五種

檢測配置器
Si(Li)電致冷 Si(Li)面積15mm2,分辨率<155 eV
Si(Li)LN Si(Li)面積30mm2,分辨率<149 eV

數據采集
數字脈沖處理器 全部參數程序控制,自動能量校正
多道脈沖分析器 32位,4096道多道分析器
數據接口 計算機以太網接口

分析處理器和WinTrace
計算機/打印機 主流計算機和彩色打印機
顯示 X-射線能譜,重疊譜比較,峰鑒定標記,分析參數
輸出 監視器,圖形打印機和調制解調器
自動化 樣品室環境,X***射線源輸出,濾光片選擇,多次激發條件,
和樣品選擇
譜處理 自動元素鑒定,數字濾波本底扣除,***小二乘法經驗峰去卷積,
總峰強度,和凈峰強度
分析技術 經驗系數法和基本參數法,歸***化,校正曲線圖顯示
操作系統 微軟WindowsXP及更新的版本

尺寸和重量
外形尺寸 寬71.88cm,高41.15cm,深59.18cm
重量 90.7kg

使用要求
電源 100、115或230VAC,50或60hz,功率1000W,真空泵需2000W
電話 遙控診斷和遙控監測需要通過因特網連線

環境要求
溫度 O~32℃
濕度 20~80%RH(無冷凝水)

參考方法
ASTM方法
D5839-96(2001) X-熒光能譜法測定危險廢燃料中痕量元素的標準測試方法
D6052.97 X-熒光能譜法對液體危險廢料中元素分析的標準測試方法

主要特點

超大Si(Li) 晶體,具有極高的痕量分析的靈敏度,打破lng的檢測限壁壘 

全數字脈沖處理器技術,死時間達60%, 以及優異的峰背比
高***FP無標樣分析軟件,進行無標樣分析,減少對標樣的依賴性
高靈敏電制冷Si(Li) 探測器技術, 儀器免維護和零費用運行
超大樣品室,可容納300mm400mm的樣品
全自動校準,自動監測,自動報警系統,完全計算機控制
鍍層和薄膜測量技術, 具有無標樣分析測厚技術
ARL QUANT''X 應用

氣溶膠顆粒濾膜
應對RoHS & WEEE 指令分析
刑偵以及痕量分析
營養添加劑
磁性磁性介質、半導體器件、PCB板等鍍層鍍膜(疊層)測厚及材料分析
高性能,操作簡便WinTrace軟件

直觀
功能強大
安全
操作靈活,方便用戶

【應 用】

【樣品盤選件】

 

 


 


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