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產 地：更新時間：2021-01-19 15:36
品 牌：型 號：Minilock-Phantom III
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美***Trion Technology 反應式離子刻蝕系統及沉積系統
Trion始于***九八九年的等離子刻蝕與沉積系統制造商，Trion為化合物半導體、MEMS(微機電系統)、光電器件以及其他半導體市場提供多種設備。我們的產品在業內以系統占地面積*小、成本低而著稱，且設備及工藝的可靠性和穩定性久經考驗。從整套的批量生產用設備，到簡單的實驗室研發用系統，盡在Trion。
Trion提供升***及回收方案給現有客戶。
小批量生產用設備:
沉積 (PECVD)
Minilock-Phantom III 具有預真空室的反應離子刻蝕機。適用于單個基片或帶承片盤的基片(3” - 300mm尺寸)，為實驗室和試制線生產環境提供的刻蝕能力。它也具有多尺寸批量處理(4x3”; 3x4”; 7x2”)。系統有多達七種工藝氣體可以用于刻蝕各種薄膜，如氧化硅、氮化硅、多晶硅、鋁、砷化鎵、鉻、銅、磷化銦和鈦。該反應室還可以用于去除光刻膠和有機材料。可選配靜電吸盤(E-chuck)，以便更有效地在刻蝕工藝中讓基片保持冷卻。該E-chuck使用氦壓力控制器，及在基片背面保持***個氦冷卻層，從而達到控制基片溫度的作用。 該設備可選配***個電感耦合等離子(ICP)源，其使得用戶可以創建高密度等離子，從而提高刻蝕速率和各向異性等刻蝕性能。
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