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美國Trion反應(yīng)離子刻蝕與沉積系統(tǒng)

價(jià)  格：詢價(jià)

產(chǎn)  地：更新時(shí)間：2021-01-19 15:36

品  牌：型  號：Oracle III

狀  態(tài)：正常點(diǎn)擊量：1366

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配送方式： 上海自提或三方快遞

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美***Trion Technology
反應(yīng)式離子刻蝕系統(tǒng)及沉積系統(tǒng)

Trion始于***九八九年的等離子刻蝕與沉積系統(tǒng)制造商，Trion為化合物半導(dǎo)體、MEMS(微機(jī)電系統(tǒng))、光電器件以及其他半導(dǎo)體市場提供多種設(shè)備。我們的產(chǎn)品在業(yè)內(nèi)以系統(tǒng)占地面積*小、成本低而著稱，且設(shè)備及工藝的可靠性和穩(wěn)定性久經(jīng)考驗(yàn)。從整套的批量生產(chǎn)用設(shè)備，到簡單的實(shí)驗(yàn)室研發(fā)用系統(tǒng)，盡在Trion。 

批量生產(chǎn)用設(shè)備:

Oracle III反應(yīng)離子刻蝕與沉積系統(tǒng)

Oracle III由中央真空傳輸系統(tǒng)(CVT)、真空盒升降機(jī)和*多四個(gè)工藝反應(yīng)室構(gòu)成。這些工藝反應(yīng)室與中央負(fù)載鎖對接，既能夠以生產(chǎn)模式運(yùn)行，也能夠作為單個(gè)系統(tǒng)獨(dú)立作業(yè)。 Oracle III是市場上*靈活的系統(tǒng)，既可以為實(shí)驗(yàn)室環(huán)境進(jìn)行配置(使用單基片裝卸)，也可以為批量生產(chǎn)進(jìn)行配置(使用真空盒升降機(jī)進(jìn)行基片傳送)。

由于Oracle III *多可容納四個(gè)獨(dú)立的工藝室，其可以有多種不同的工藝組合，其中包括RIE/ICP (反應(yīng)離子刻蝕機(jī)/電感耦合等離子)刻蝕和PECVD 沉積。多個(gè)室可以同時(shí)工作。鑒于所有工藝室均有真空負(fù)載鎖，工藝運(yùn)行安全且沒有大氣污染。

 

 


產(chǎn)品參數(shù)


產(chǎn)品介紹




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