美國(guó)Trion批量生產(chǎn)用設(shè)備去膠系統(tǒng)
價(jià) 格:詢價(jià)
產(chǎn) 地:更新時(shí)間:2021-01-19 15:36
品 牌:型 號(hào):Gemini 和Apollo
狀 態(tài):正常點(diǎn)擊量:1522
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Trion 去膠系統(tǒng)Gemini 和Apollo |
詳細(xì)介紹 |
美***Trion Technology 反應(yīng)式離子刻蝕系統(tǒng)及沉積系統(tǒng) | Trion始于***九八九年的等離子刻蝕與沉積系統(tǒng)制造商,Trion為化合物半導(dǎo)體、MEMS(微機(jī)電系統(tǒng))、光電器件以及其他半導(dǎo)體市場(chǎng)提供多種設(shè)備。我們的產(chǎn)品在業(yè)內(nèi)以系統(tǒng)占地面積*小、成本低而著稱,且設(shè)備及工藝的可靠性和穩(wěn)定性久經(jīng)考驗(yàn)。從整套的批量生產(chǎn)用設(shè)備,到簡(jiǎn)單的實(shí)驗(yàn)室研發(fā)用系統(tǒng),盡在Trion。 批量生產(chǎn)用設(shè)備去膠系統(tǒng)Geminiollo : | - 低損傷去膠系統(tǒng) 新式去膠系統(tǒng)的成本已攀升到不合理水平,但Trion已通過兩套價(jià)格低廉、緊湊的多功能系統(tǒng)使這***關(guān)鍵問題得到解決:Gemini和Apollo。利用ICP(電感耦合等離子)、微波和射頻偏置功率,可以在低溫條件下將難于消除的光刻膠去除。根據(jù)應(yīng)用要求,每套系統(tǒng)可以結(jié)合SST-Lightning 微波源(既可靠又沒有任何常見的微波調(diào)諧問題) 或ICP 技術(shù)。 • 刻蝕速率高達(dá)6微米/分 • 高產(chǎn)量 • 等離子損傷低 • 自動(dòng)匹配單元 • 適用于100mm 到300mm 基片 • 設(shè)備占地面積小 • 價(jià)格具競(jìng)爭(zhēng)性 | | | |