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英國 Durham 無掩膜光刻機

價  格:詢價

產  地:更新時間:2021-01-19 15:36

品  牌:型  號:Microwriter ML3

狀  態:正常點擊量:2749

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Durham Microwriter ML3 無掩膜光刻機
詳細介紹
小型臺式無掩膜光刻系統
 

    小型臺式無掩膜光刻系統是英***Durham Magneto Optics公司專為實驗室設計開發,為微流控、SAW、半導體、自旋電子學等研究領域提供方便高效的微加工方案。

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    傳統的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由專業供應商提供,但是在研發環境中,掩膜板的設計通常需要經常改變。無掩膜光刻技術通過以軟件設計電子掩膜板 的方法,克服了這***問題。與通過物理掩膜板進行光照的傳統工藝不同,激光直寫是通過電腦控制***系列激光脈沖的開關,在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。

    Microwriter ML 3 是***款多功能激光直寫光刻系統,具有結構小巧緊湊(70cm X 70cm X 70cm),無掩膜直寫系統的靈活性,還擁有高直寫速度,高分辨率的特點。采用集成化設計,全自動控制,可靠性高,操作簡便。適用于各種實驗室桌面。

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產品特點   

Focus Lock自動對焦功能 

Focus lock技術是利用自動對焦功能對樣品表面高度進行探測,并通過Z向調整和補償,以保證曝光分辨率。

光學輪廓儀 

Microwriter ML3 配備光學輪廓探測工具,用于勻膠后沉積層,蝕刻層,MEMS等前道結構的形貌探測與套刻。Z向精度100 nm,方便快捷

 

標記物自動識別

點擊“Bulls-Eye”按鈕,系統自動在顯微鏡圖像中識別光刻標記。標記物被識別后,將自動將其移動到顯微鏡中心位置。

別直寫前預檢查

軟件可以實時顯微觀測基體表面,并顯示預直寫圖形位置。通過實時調整位置、角度,直到設計圖形按要求與已有結構重合,保證直寫準確。

 

簡單的直寫軟件

MicroWriter ***個簡單直觀的Windows界面軟件控制。工具欄會引導使用者進行簡單的布局設計、基片對準和曝光的基本操作。該軟件在Windows10系統下運行

 

Clewin 掩模圖形設計軟件 

可以讀取多種圖形設計文件(DXF, CIF, GDSII, 等
可以直接讀取TIFF, BMP 圖片格式
書寫范圍只由基片尺寸決定
 
 
產品參數

Microwriter ML3 基本型 增強型 旗艦型
 樣品尺寸 155×155×7mm 155×155×7mm 230×230×15mm
 直寫面積 149mm x 149mm 149mm x 149mm 195mm x 195mm
 曝光光源 405 nm LED 1.5W 405 nm LED 1.5W 385 nm LED 適用于SU-8 
(365+405nm雙光源可選)
 直寫分辨率 1μm 1μm and 5 μm 0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm
 直寫速度 20mm2/min @ 1μm 20mm2/min @ 1μm
120mm2/min @ 5μm
25mm2/min @ 0.6μm
50mm2/min @ 1μm
100mm2/min @ 2μm
180mm2/min @ 5μm
 對準顯微鏡鏡頭 x10 x3 and x10 自動切換 x3, x5, x10, x20 自動切換
 多層套刻精度 ±1μm ±1μm ±0.5μm
 *小柵格精度 200nm 200nm 100nm
 樣品臺*小步長 100nm 100nm 50nm
 光學輪廓Z分辨率 無(可升***) 300nm 100nm
 樣品表面自動對焦
 灰度直寫(255***)
 自動晶片檢查工具 無(可升***)
 溫控樣品腔室 無 (可升***) 無 (可升***)
 虛擬模板校準工具 無(可升***) 無(可升***)
 氣動減震光學平臺 無(可升***) 無(可升***)

應用案例

直寫分辨率1μm

  
直寫分辨率0.6μm
 
 微電極制備
       光刻膠上的圖形                                 Au電極(SEM)                                   Au電極(SEM) 
       
       設計圖                                                 光刻膠上的圖形                                        放大圖的顯微結構
       
 
微結構制備
   
 
    
 
微流通道制備
   
 
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產品參數


產品介紹



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