德國Raith 電子束光刻機(jī)
價(jià) 格:詢價(jià)
產(chǎn) 地:更新時(shí)間:2021-01-19 15:36
品 牌:型 號(hào):EBPG5150
狀 態(tài):正常點(diǎn)擊量:2005
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德***Raith EBPG5150 電子束光刻機(jī) |
詳細(xì)介紹 |
EBPG5150使用了155mm大小的樣品臺(tái),采用跟EBPG5200***樣的通用光刻平臺(tái)設(shè)計(jì),對(duì)電子束直寫應(yīng)用進(jìn)行了優(yōu)化。它可以載入不同大小的樣品,包括多片散片以及完整的硅片。 00001. 高束流密度,熱場(chǎng)發(fā)射電子槍可以在20、50和100kV之間切換 00002. 155mm的平臺(tái) 00003. *小曝光特征尺寸小于8nm 00004. 高速度曝光,可采用50或100MHz的圖形發(fā)生器 00005. 在所有KVs加速電壓下,可連續(xù)改變的寫場(chǎng)大小,可以到1mm 00006. GUI人機(jī)交互界面友好,簡潔易用,適用于多用戶環(huán)境 00007. 多項(xiàng)靈活可選擇的配置,可以適用于不同應(yīng)用的需求 可選的系統(tǒng)增強(qiáng)升*** EBPG5150可以選擇不同的升***選項(xiàng),以滿足用戶不同的技術(shù)和預(yù)算需求。讓全世界的高校等研究類用戶也可以使用這款非常、高自動(dòng)化的電子束光刻系統(tǒng)。 EBPG5150 應(yīng)用 · 電子束曝光用于制作GaAs T型器件 · 微盤諧振器 · 開口環(huán)諧振器 EBPG5150 產(chǎn)品詳情 主要應(yīng)用: · 100KV高加速電壓可用于曝光高深寬比納米結(jié)構(gòu) · 高速電子束直寫 · 批量生產(chǎn),如化合物半導(dǎo)體器件 · 防偽標(biāo)識(shí) | 電子光學(xué)柱技術(shù): · EBPG · 電子束 · 100 kV | 樣品臺(tái): · 覆蓋完整6英寸硅片大小 · 標(biāo)配2工位自動(dòng)化上料 (10工位可選) | |