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德國Raith Voyager 新一代超高分辨率電子束光刻機

價  格:詢價

產  地:更新時間:2021-01-19 15:36

品  牌:型  號:

狀  態:正常點擊量:1916

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上海非利加實業有限公司

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德***Raith Voyager 新***代超高分辨率電子束光刻機
編號:Raith
功率:
芯片數量:
詳細介紹

  Voyager 新***代電子束光刻系統

高速且價格合理的電子束光刻機實現精確的曝光效果

對于工業界和學術界所有關注速度和高分辨的電子束曝光應用,我們推薦您選擇VOYAGERTM這款專業電子束光刻系統。

Raith非常重視這款具有吸引力的在使用壽命期間具有高性價比、新開發的、創新的eWRITE體系結構。

系統的硬件和軟件被***致設計為自動曝光操作,的高性能圖形發生器和電子光學系統優化設計并協同***致。

系統可實現8英寸樣品的高速曝光。系統的穩定性是非常關鍵的指標,可保證大面積均勻曝光。該系統外部采用環境屏蔽罩,即使在稍差的實驗室環境下,仍然能確保系統具有非常好的熱穩定性,提高系統對外界環境的容忍度。

超高分辨率曝光系統

00001. 從*初設計到樣品制備完成,實現高速樣品加工,提高產量

00002. 智能設計:設備占地面積小,且集成環境屏蔽罩

00003. 創新的、未來安全型系統架構

00004. 專業的電子束曝光系統,可實現每小時1cm2的高速曝光,高性價比

eWrite技術

Raith新推出的eWrite技術結合了專業電子束光刻的光學系統和創新的圖形發生器設計,該技術適用于研發及批量生產的所有工作。

VOYAGER 應用

· HSQ膠上制作亞7nm線條

 

· SU8膠上制作 1x1 cm² 菲涅爾透鏡,曝光時間為53分鐘,圖為菲涅爾透鏡中心區域

· PMMA雙層膠上制作150nm T型柵結構

· ZEP520膠上制作 1x1 cm²光柵結構,曝光時間小于2小時

· 高速度模式(40nA束電流下曝光160um大結構)和高分辨模式(0.4nA束電流下曝光10nm細小結構)自動切換

· ZEP520膠上制作光子晶體波導結構

VOYAGER 產品詳情

主要應用:

· 高速直寫

· 衍射光學元件

· 防偽元件

· 批量加工化合物半導體器件

 

樣品臺:

· 6“ 移動范圍

· Z方向移動范圍大

 

電子槍技術:

· eWrite

· 電子

· 50 kV

 

 

獨特直寫模式:

· traxx 長線條無寫場拼接曝光模式

· periodixx周期結構無寫場拼接曝光模式

 

 

 


 

產品參數


產品介紹



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