Voyager 新***代電子束光刻系統 高速且價格合理的電子束光刻機實現精確的曝光效果 對于工業界和學術界所有關注速度和高分辨的電子束曝光應用,我們推薦您選擇VOYAGERTM這款專業電子束光刻系統。 Raith非常重視這款具有吸引力的在使用壽命期間具有高性價比、新開發的、創新的eWRITE體系結構。 系統的硬件和軟件被***致設計為自動曝光操作,的高性能圖形發生器和電子光學系統優化設計并協同***致。 系統可實現8英寸樣品的高速曝光。系統的穩定性是非常關鍵的指標,可保證大面積均勻曝光。該系統外部采用環境屏蔽罩,即使在稍差的實驗室環境下,仍然能確保系統具有非常好的熱穩定性,提高系統對外界環境的容忍度。 超高分辨率曝光系統 00001. 從*初設計到樣品制備完成,實現高速樣品加工,提高產量 00002. 智能設計:設備占地面積小,且集成環境屏蔽罩 00003. 創新的、未來安全型系統架構 00004. 專業的電子束曝光系統,可實現每小時1cm2的高速曝光,高性價比 eWrite技術 Raith新推出的eWrite技術結合了專業電子束光刻的光學系統和創新的圖形發生器設計,該技術適用于研發及批量生產的所有工作。 VOYAGER 應用 · HSQ膠上制作亞7nm線條 · SU8膠上制作 1x1 cm² 菲涅爾透鏡,曝光時間為53分鐘,圖為菲涅爾透鏡中心區域 · PMMA雙層膠上制作150nm T型柵結構 · ZEP520膠上制作 1x1 cm²光柵結構,曝光時間小于2小時 · 高速度模式(40nA束電流下曝光160um大結構)和高分辨模式(0.4nA束電流下曝光10nm細小結構)自動切換 · ZEP520膠上制作光子晶體波導結構 VOYAGER 產品詳情 主要應用: · 高速直寫 · 衍射光學元件 · 防偽元件 · 批量加工化合物半導體器件 樣品臺: · 6“ 移動范圍 · Z方向移動范圍大 | | 電子槍技術: · eWrite · 電子 · 50 kV 獨特直寫模式: · traxx 長線條無寫場拼接曝光模式 · periodixx周期結構無寫場拼接曝光模式 | |