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德國Eulitha 高分辨紫外光刻系統

價  格:詢價

產  地:更新時間:2021-01-19 15:36

品  牌:型  號:PhableR 100

狀  態:正常點擊量:1180

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德***Eulitha PhableR 100高分辨紫外光刻系統 

 

科研/生產兼用 

簡介: 

PhableR 100 紫外光刻機是***套低成本的光學曝光系統,但卻能獲得高分辨率的周期性結構。同傳統的紫外曝光機類似,涂覆了光刻膠的晶片以接近方式放置在掩膜版下面,被紫外光束照射。由于Eulitha公司擁有突破性的PHABLE 曝光技術,在"PHABLE"模式下,分辨率不再受到衍射的限制,從而曝光出亞微米的線性光柵和二維光柵(六角形和正方形),且曝光結果非常均勻,質量很 好;在"mask aligner"模式下,能非常輕松地獲得微米尺寸的圖形。

特點: 

· 高效的大面積亞微米-納米圖形化設備

· 操作簡單、工作穩定,兼容科研及批量生產

· 納米周期性圖案解決方案

優勢

· 大面積圖形化設備:適用4、6、8寸襯底

· 高曝光效率:非步進式曝光,無拼接,單次全場曝光實現整片圖形化

· 高精度:光學衍射自成像原理,突破傳統曝光精度極限

· 非接觸式曝光

· 設備沒有景深限制,曝光過程無需對焦

· 雙工作模式(UV375機型):高分辨模式(周期性納米-微米結構),***般紫外光刻模式(非周期結構)

· 設備采用通用的商業光刻膠,根據客戶的圖形,提供工藝技術支持。

 

PhableR 100革新性紫外光刻機 

 

 

 

技術指標: 

光源

UV375nm

DUV266nm

DUV193nm

分辨率

125nm

75nm

62nm

周期范圍

250-3000nm

150-2500nm

125-2000nm

操作方式

手動裝片-自動曝光

參數設置

觸摸屏

基片尺寸

4、6、8英寸(尺寸向下兼容)

PhableR 100 晶圓***光子學結構的曝光工具 

應用: 

· 圖形化藍寶石襯底(PSS)

· DFB布拉格光柵

· 減反層圖形

· 顯示濾光片Color Filter

· 線柵偏振Wire Grid Polarizer(WGP)

· 光子晶體

· 磁性納米結構

· 太陽能光伏

· 生物傳感器

· AR、VR技術

 

 

 

 


 
   
 
 
 
 

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