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拉曼原子力顯微鏡系統

價  格:詢價

產  地:更新時間:2021-01-18 15:15

品  牌:型  號:alpha300 RA

狀  態:正常點擊量:2123

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alpha300 RA C在***個系統里面集成化學成分分析和納米***別的結構成像

alpha300 RA 是市場上***個高度集成的拉曼原子力顯微鏡系統可以在標準的Alpha 300R共聚焦拉曼系統上通過標準模塊升***即可完成拉曼原子力系統聯用,獲得原位的AFMRaman圖像的疊加。alpha300 RA 獨特的設計理念使聯用系統既保留300R強大的化學組分分析能力,同時加入微納***別的表面形貌等特性的分析能力,使研究者能對樣品進行深度完善的分析和理解。

 

alpha300 RA 讓拉曼和原子力兩種互補的技術得以在***套系統里面實現兩種技術的性能完全不受聯用的影響而且使用同***個操作軟件使得操作和分析變得簡單應用。拉曼和原子力顯微鏡使用不同的顯微鏡物鏡,只需要簡單轉動物鏡轉盤,成像軟件即可原位完成兩種技術的圖像對比,疊加和分析

 

此外alpha300 RA可進***步升***來配合TERS (高分辨拉曼)測量

 

拉曼原子力顯微鏡系統主要特點

所有alpha300 R (拉曼) alpha300 A (原子力) 性能集成到***個顯微鏡系統內

優異的原位化學組分分析(拉曼)和微納***別表面特征分析(原子力)的結合

原子力和拉曼同時進行的絕佳選擇

嚴格原位完全不需要在測量過程中移動樣品

只需要轉動物鏡轉盤即可在兩種測量技術之間簡單切換

 

 

 

拉曼原子力顯微鏡系統應用實例

 

多組分高分子混合物包含了1:1:1比例的聚苯乙烯(PS),充油丁苯橡膠SRB和丙烯酸乙基己酯EHA的原位拉曼及原子力圖像對標

*左邊的拉曼成像: 綠色代表PS, 紅色代表SRB藍色代表EHA.

第二至第五張圖像分別是樣品的表面拓撲結構,相位,粘附力和粘度

 

 

金剛石壓砧在單晶硅表面的壓痕的應力分析原位拉曼原子力圖像

左圖10x10um原子力表面拓撲結構和深度輪廓圖,右圖壓痕周邊的應力拉曼圖像,紫色為未受應力影響,黃色為壓力應變,灰色為張力應變

 

拉曼原子力顯微鏡系統性能

通用拉曼操作模式

拉曼光譜成像連續掃描的拉曼高光譜全譜成像,每個樣品點都能獲得完整的拉曼光譜

平面2D和包含深度Z方向的3D成像模式

快速和慢速時間序列

單點及Z方向深度掃描

光纖耦合的UHTS 系列光譜儀專為弱光應用的拉曼光譜設計

共聚焦熒光顯微鏡功能

明場顯微鏡功能

 

通用原子力顯微鏡操作模式

接觸模式

AC 模式(輕敲模式)

數字脈沖力模式 (DPFM)

抬高模式

磁力顯微鏡模式 (MFM)

靜電力顯微鏡模式 (EFM)

相位成像模式

力曲線分析

微納操控及微納印刷

橫向力模式 (LFM)

化學力模式 (CFM)

電流探測模式

其他可選

 

基本顯微鏡指標

研究***別的光學顯微鏡,6孔物鏡轉盤

明場CCD相機代替目鏡觀察樣品

LED明場科勒照明

電動XYZ樣品臺25x25x20mm平移范圍

主動隔震平臺

 

 各類拉曼升***選項(如true surface等)

多種激光可選擇

多種光譜儀可選擇

自動共聚焦拉曼成像

自動多區域多點測量

可升***超快拉曼圖像模式(需配置EMCCDPiezo樣品臺可獲得每秒1300張光譜的速度)

可升***落射熒光照明

自動聚焦功能

顯微鏡觀察法可選,如暗場,像差,偏光,微分干涉等

 

超高通光量UHTS光譜儀

各類透射式波長優化譜儀可選 (UV, VIS or NIR)均為弱光拉曼光譜設計

光纖耦合,70%超高光通量

優異的成像質量,光譜峰形對稱無像差

 

控制電腦

WITec控制和數據采集,處理軟件



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