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SC3000新型濺射鍍膜儀(12英寸)

Quorum/Emitech***近投放市場的新型臺式濺射鍍膜儀SC3000，可適合電鏡制樣和12英寸晶圓快速鍍膜等用途。這個(gè)新型濺鍍系統(tǒng)重要特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)在于它緊湊的腔室尺寸、***少的抽真空時(shí)間和***大的制樣產(chǎn)量。
這個(gè)采用全自動控制的新型系統(tǒng)能夠在***次真空條件下順序?yàn)R鍍多達(dá)三層不同的金屬膜，靶材可選菜單有15種預(yù)設(shè)工作程序的材料，還能自動探測放入的晶圓尺寸如100，150，200或300mm。具有渦輪泵的高真空鍍膜儀使用標(biāo)準(zhǔn)濺射靶材，在系統(tǒng)中允許使用多種靶材，如易氧化金屬和貴金屬。

SC3000濺射儀系統(tǒng)可對12英寸（300mm）晶圓進(jìn)行噴鍍。它具有多靶濺射，在不破壞真空的情況下，可進(jìn)行三層順序涂層。
此儀器為高真空、高分辨率鍍膜系統(tǒng)，它可進(jìn)行精細(xì)及精確、可重復(fù)的鍍膜。
SC3000中配有三個(gè)磁電管靶，可鍍超大直徑的樣品，加之可旋轉(zhuǎn)的樣品臺，保證了均勻沉積。這種方式不需要特大的靶面，而用標(biāo)準(zhǔn)靶即可。
多靶系統(tǒng)在半導(dǎo)體晶圓工業(yè)尤為適用。它使用渦輪分子泵，前***為旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵。集成的儀器面板和即插即用的電子學(xué)***大的“up-time”，以及用戶友好設(shè)計(jì)，保證了多學(xué)科領(lǐng)域滿意的應(yīng)用。
濺射參數(shù)可預(yù)設(shè)，包括氣體放氣電磁針閥。
在全自動鍍膜過程中，獨(dú)立的真空泵自始自終由儀器自動控制。可用金作為濺射靶材，也可選用需要預(yù)清潔或去除氧化層的靶，如鉻靶。
閘門已作為標(biāo)準(zhǔn)配置，該裝置允許在維持真空的同時(shí)可進(jìn)行濺射清潔和濺射循環(huán)。

● 模塊化控制電子學(xué)單元
● 清潔的真空設(shè)計(jì)
● 旋轉(zhuǎn)樣品臺
● 多靶濺射（配有濺射清潔光閘）
● LCD 狀態(tài)/數(shù)據(jù)登錄顯示
● 用戶菜單輸入可存貯10個(gè)方案
● LCD顯示（真空、時(shí)間及電流）
● 靈敏的真空測量頭（操作真空全范圍顯示）
● 具有ISO 100 Flange渦輪分子泵抽氣系統(tǒng)，（可選更大的泵）240 L/sec
● 整個(gè)全自動程序包括凈化非常快—15分鐘
● Peltier冷卻靶面—無需循環(huán)水
● 不用打開真空即可進(jìn)行三層順序鍍膜

SC3000新型濺射鍍膜儀(12英寸)

儀器尺寸：450mm W x 500mm D x 300mm H （整個(gè)高度650mm） 重量：55公斤
工作腔室：不銹鋼 300mm Dia x 200mm H（具有觀察窗口）
靶：三靶54 mm 直徑 x 0.3mm 厚鉻作為標(biāo)準(zhǔn)靶材（各種靶材可選，如：金、鉑、金/鈀合金）
旋轉(zhuǎn)樣品臺：適合6英寸及12英寸晶圓可調(diào)，
與靶的距離為60mm
真空范圍：ATM-1x10-5 mbar
操作真空：1 x 10-3 mbar到 1 x 10-4 mbar
沉積電流：0-750mA
沉積速度：0-10nm/分
濺射定時(shí)：0-4 分鐘
電源：230 伏 50Hz (包括泵最大電流為10安培)
115 伏 60Hz (包括泵最大電流為20安培)
Services：Argon - Nominal 10 psi Nitrogen：Nominal 10 psi (Argon may be used as common gas)
前級旋轉(zhuǎn)泵：No5真空泵, 85L/Min complete with Vacuum Hose and Oil Mist Filter. 8m3/Hr.

SC3000新型濺射鍍膜儀(12英寸)