原子層沉積系統PICOSUN?- P系列
價 格:詢價
產 地:芬蘭更新時間:2020-09-23 13:49
品 牌:Picosun型 號:PICOSUN?- P系列
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原子層沉積系統PICOSUN?- P系列ALD技術可以覆蓋各種形狀、各種表面的樣品,可以覆蓋***
細小的地方,***難到達的地方。具有高度的保形性、均***性及***無針孔。這使得ALD可以應用于各種行業里,實現各種表面的保護。ALD薄膜可以附著在各種表面上,例如金屬,玻璃,塑料,乃至纖維及粉末。作為氣相、低溫的沉積技術,ALD薄膜可以生長在非常敏感的表面上,例如聚合物薄
膜。
***,Picosun的ALD技術應用在鐘表部件、珠寶、硬幣上進行
防著色,防腐蝕的裝飾涂層。在生物植入醫療部件上的生物兼容、生物活性涂層。
致密、惰性、密封、彈性、透明的ALD薄膜技術挑戰傳統的膜
生長方式。在PCB防腐蝕保護、防摩損等領域,ALD層大大提升了部件的質量、可靠性及壽命。
產品參數
PICOSUN? ALD P-300 Pro技術參數(更多產品技術參數參考公司網站) |
襯底尺寸和類型 | 最大300mm晶圓/單片
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工藝溫度 | 50 - 500 °C
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基片傳送選件 | 半自動裝載,用單片Load lock與磁力操縱桿實現 25片晶圓盒對盒式全自動裝載(cassette-to-cassette),用PICOPLATFORM? 300集群系統實現
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標準 | SEMI S2認證
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前驅體 | 液態,固態,氣態,臭氧源 等離子體(僅供200mm晶圓使用,最多4路氣體) 前驅源余量傳感器,并提供清洗和裝源服務 6條獨立源管線,最多加載8個前驅體源(最多12個前驅體源,加上plasma管路共7根獨立源管線)
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重量 | 820 kg
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尺寸(W x H x D)
| 160 cm x 80 cm x 240 cm
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選件 | 集群工具,PICOFLOW?擴散增強,N2發生器,尾氣處理,定制設計,與工廠軟件連接服務。
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驗收標準 | 標準設備驗收標準為Al2O3工藝, 其他工藝可具體協商:其他工藝、應用具體驗收標準如: --不均勻性 --顆粒物含量 --重金屬污染 --電學性能 |
產品介紹
原子層沉積系統PICOSUN?- P系列ALD技術可以覆蓋各種形狀、各種表面的樣品,可以覆蓋*** 細小的地方,***難到達的地方。具有高度的保形性、均***性及***無針孔。這使得ALD可以應用于各種行業里,實現各種表面的保護。ALD薄膜可以附著在各種表面上,例如金屬,玻璃,塑料,乃至纖維及粉末。作為氣相、低溫的沉積技術,ALD薄膜可以生長在非常敏感的表面上,例如聚合物薄 膜。 ***,Picosun的ALD技術應用在鐘表部件、珠寶、硬幣上進行 防著色,防腐蝕的裝飾涂層。在生物植入醫療部件上的生物兼 容、生物活性涂層。 致密、惰性、密封、彈性、透明的ALD薄膜技術挑戰傳統的膜 生長方式。在PCB防腐蝕保護、防摩損等領域,ALD層大大提 升了部件的質量、可靠性及壽命。